high pressure 1 2-6型大体积高压高温合成装置 I 最高压力10 GPa；温度2000 K
high pressure 2 2-6型大体积高压高温合成装置 II 最高压力10 GPa；温度2000 K
high pressure 3 国产铰链式大腔体高压高温合成装置 最高压力6 GPa；温度3200 K
floating zone furnace 高精度光学浮区法单晶炉 温度 > 2200 K
ppms PPMS综合物性测量系统 温度范围：1.8-400 K；磁场范围： 0-9 T
Laue X光粉末衍射与单晶劳厄衍射集成系统 2θ范围5-100度；2θ步长0.005度
TG-DTA Labsys Evo STA同步热分析仪 温度范围：室温至1800 K
DSC 差示扫描量热仪 温度范围：100-1000 K
Seebeck Seebeck系数和电阻分析系统 温度范围：室温至1073 K
dielectric 介电/铁电综合测试仪表
probe 多功能样品杆 可实现磁控电及电控磁测量
resistivity 高温电阻测试系统 温度范围：300-1073 K
ms 高真空磁控溅射薄膜沉积系统
ms 冷等静压机 压力范围：0-300 MPa
muffle 马弗炉 温度范围：室温至1600 K
tube 管式炉 温度范围：室温至1800 K
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